열판
고온 Heater용 plate, 삼성반도체 photo공정에 사용
POINT
Outgas 無
Dust free
크랙현상 無
제품개요
현재 반도체산업에서 사용되고 있는 Photo 공정 PR건조용 고온 Heater 제품입니다.
Photo공정시 높은 온도에서 히터역할이 가능해야 하는 제품이며 우수한 전기절연성과 내구성을 요구하는 제품입니다.
PEO처리 특성
400°℃ 이상의 고온에서의 열 충격에 의한 피막 Crack 발생이 없음
이온 전도성 원소가 최소화된 Electrolyte를 사용하여 우수한 내플라즈마 특성확보와 전기절연성 향상
친환경 표면처리공정에 따른 청정특성 확보
